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北方華創14納米 Hardmask PVD設備成功進入國際主流生產線驗證

      日前,北方華創微電子自主開發的14納米 Hardmask PVD(硬掩模物理氣相沉積)設備成功進入國際主流集成電路生產線驗證,這是北方華創微電子繼14納米刻蝕機、單片退火設備之後,又一種14納米集成電路設備進入工藝驗證階段。

TiN Hardmask PVD是集成電路製程中的一道重要工藝步驟,北方華創微電子基於多年集成電路PVD設備技術積累,針對性開發了exiTin H430 PVD設備,用於14 納米TiN Hardmask薄膜沉積工藝,設備以全新的設計理念實現了多項技術突破。

作為中國集成電路製造設備的先行者,北方華創微電子秉持以客戶需求為導向的持續創新理念,深耕發展,開拓創新,不斷為集成電路產業提供設備技術支撐。

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